




四---碳亦称全---碳、四氟甲4烷、全---碳,为非腐蚀性气体,所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜,铝等金属材料都可以使用。四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,四---碳公司,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应。
四---碳的溶氧性---,太原四---碳,因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的---内,高浓度四---碳,小白鼠仍可安全脱险。四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,四---碳生产,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-h2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
四---碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。四---碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四---碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。
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