高浓度四---碳-四---碳-谱纯气体,气源充足

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    2024-1-5

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电子四---碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,高浓度四---碳,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾---,---四---碳(cf4)的纯度和安全稳定使用。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,四---碳公司,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,四---碳,都能生成四---碳。



四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四---碳一般认为是惰性低毒物质,四---碳生产,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四1氯化碳。产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。







四---碳物理性质 :

   熔点-183.6℃,

   分子式是cf4,

  沸点-128.1℃,

  液体密度(-130℃)1.613g/cm3,

  液体折光率(-173℃)1.515,

  固体转变点72.2k,

  临界温度-45.67℃,

  临界压力3.73mpa,

   蒸气压(-150.7℃)13.33kpa

  介电常数(25℃,0.5mpa)1.0006

  临界密度:7.1dm3/mol

  标准摩尔自由能:-929.84 kj/mol

  标准摩尔生成自由能:-887.41 kj/mol

   危险性类别:第2.2类不燃气体





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