四---碳贮存注意事项：气瓶使用和检验遵照<气瓶安全监察规程>的规定。气瓶内的气体不能全部用尽，四---碳批发，应该留不小于0.04mpa剩余压力。四---碳对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体，被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外，四---碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。
四---碳是一种卤代烃，化学式cf4。它既可以被视为一种卤代烃、全---碳，也可以被视为一种无机化合物。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1?nm)， β = 118.73° 。随着手机、相机、太阳能电池等消费电子产品的需求量不断---，高纯度四---碳将成为四---碳行业的主要增长动力。在范围内，高纯度四---碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区，受电子产业发展程度不同影响，对于高纯度四---碳的需求也不同，亚洲地区由于电子产业发展落后，近几年电子电器行业处于快速发展状态，因此使得该地区的高纯度四---碳消费量持续---。
四---碳物理性质 :
熔点-183.6℃，
分子式是cf4，
沸点-128.1℃，四---碳，
液体密度(-130℃)1.613g/cm3，
液体折光率(-173℃)1.515，
固体转变点72.2k，四---碳厂商，
临界温度-45.67℃，工业四---碳厂家，
临界压力3.73mpa，
蒸气压（-150.7℃）13.33kpa
介电常数（25℃，0.5mpa）1.0006
临界密度：7.1dm3/mol
标准摩尔自由能：-929.84 kj/mol
标准摩尔生成自由能：-887.41 kj/mol
危险性类别：第2.2类不燃气体
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