四---碳厂-四---碳-谱纯气体,气源充足

四---碳贮存注意事项：气瓶使用和检验遵照<气瓶安全监察规程>的规定。气瓶内的气体不能全部用尽，应该留不小于0.04mpa剩余压力。四---碳对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，四---碳，通过调节两种气体的比例，四---碳价格多少，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体，被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外，四---碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。

因为四---碳和四---圭都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四---碳的热稳定性---。相对分子量88.00。在常温下，四---碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。四---碳亦称全---碳、四氟甲1烷、全---碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用。