---4碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，四---碳价钱，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，工业四---碳价格，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。
四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子烛刻气体，其高纯气及四---碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
四---碳物理性质 :
熔点-183.6℃，济宁四---碳，
分子式是cf4，
沸点-128.1℃，
液体密度(-130℃)1.613g/cm3，工业四---碳厂，
液体折光率(-173℃)1.515，
固体转变点72.2k，
临界温度-45.67℃，
临界压力3.73mpa，
蒸气压（-150.7℃）13.33kpa
介电常数（25℃，0.5mpa）1.0006
临界密度：7.1dm3/mol
标准摩尔自由能：-929.84 kj/mol
标准摩尔生成自由能：-887.41 kj/mol
危险性类别：第2.2类不燃气体
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