




对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时,四---碳供应商,四---碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433,北京四---碳, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。
储存注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、氧化剂分开存放,工业四---碳厂家,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。四---碳作为制冷剂是一种无色不可燃气体,能够保障液体运输的安全性。在---医学中,四---碳还是一种高浓度的醉剂。由以上看出,四---碳的应用范围广泛,在下游电子产业等带动下,行业快速发展。是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。四氯1化碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。
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