四---碳（cf4）早就是通过氟碳直接反应法制得的，该方法经过不断的发展与完善， 如今已成为工业上制备全的主要的方法之一。高纯四---碳是纯度在99.999%以上的四---碳产品，是一种无色无味气体。高纯四---碳不可燃烧，在常温常压条件下化学性质稳定，在密闭容器中遇高热有危险，不溶于水，可溶于---、等部分溶剂。以活性炭与氟为原料经---反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。
反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，工业四---碳，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，工业四---碳厂，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化。四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
随着芯片制程向7纳米迈进，细微杂质对芯片的损害更为明显，电子产业对高纯电子气体的纯度要求进一步提高，在此背景下，我国高纯四---碳生产技术与产品仍有提升空间。四---碳是一种卤代烃，化学式cf4。它既可以被视为一种卤代烃、全---碳，也可以被视为一种无机化合物。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597，四---碳厂家， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1?nm)，重庆四---碳， β = 118.73° 。高纯四---碳在常温常压条件下化学性质稳定，高纯四---碳是一种高纯电子气体，在电子产业中需求量大。
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