




对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应。
四---碳在900℃时,四---碳生产,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒---物。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,泉州四---碳,会分解产生有毒---物。
四---碳也一样,比如我们公司生产的钢瓶装四---碳在14mpa的气压下也是液态的,在正常---压下就是气态的,四---碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,四---碳供应商,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。
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