




对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。因为四---碳和四---1硅都是共价化合物,四---碳供应,然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能,键长也是前者短得多,杭州四---碳,所以四---碳的热稳定性---。
四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四---碳一般认为是惰性低毒物质,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四1氯化碳。产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,四---碳,得到高纯cf4。
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